φ2*2mm Titan-Getter zur Adsorption von Gasverunreinigungen

Der φ2*2mm Titan-Getter von TOPTITECH ist eine Hochleistungs-Gasadsorptionslösung, die für Präzisionsvakuumsysteme entwickelt wurde. Dieser aus ultra-hoch-reinem Titanpulver gefertigte Getter weist eine außergewöhnliche Adsorptionskapazität für reaktive Gase wie Wasserstoff (H₂), Stickstoff (N₂), Kohlenmonoxid (CO) und Wasserdampf (H₂O) auf. Seine kompakte zylindrische Form, optimiert für ein großes Verhältnis von Oberfläche-Fläche-zu -Volumen, gewährleistet eine effiziente Gaserfassung durch Chemisorptions- und Diffusionsmechanismen. Dieser Titan-Getter ist ideal für Anwendungen in der Vakuumwärmebehandlung, der Halbleiterfertigung und versiegelten elektronischen Geräten und arbeitet effektiv bei Temperaturen von 650 bis 760 Grad, verhindert Oxidation und hält Ultrahochvakuumbedingungen (UHV) unter 10⁻¹⁰ mbar aufrecht.

Der auf Langlebigkeit und Zuverlässigkeit ausgelegte φ2*2mm-Titan-Getter von TOPTITECH nutzt fortschrittliche Pulvermetallurgietechniken, einschließlich Kaltpressen und Hochtemperatursintern, um eine überragende mechanische Festigkeit und thermische Stabilität zu erreichen. Seine nicht-verdunstbaren Eigenschaften machen es zu einer nachhaltigen Wahl, da es durch kontrollierte Ausheizprozesse wiederholt regeneriert werden kann. Dieser Getter ist mit der Verarbeitung von Titanlegierungen kompatibel, minimiert Oberflächenverunreinigungen und Verfärbungen und gewährleistet eine makellose Bauteilqualität. Ganz gleich, ob er in heiße Zonen von Vakuumöfen integriert oder in Verbindung mit Legierungen der Gruppe IV- verwendet wird, liefert dieser Titan-Getter eine unübertroffene Leistung bei der Entfernung von Gasverunreinigungen und ist damit eine unverzichtbare Komponente für hochpräzise industrielle und wissenschaftliche Anwendungen.

Produktmerkmale

 

 

Hohe Adsorptionskapazität: Der 2 x 2 mm große Titan-Getter erreicht eine außergewöhnliche Gasadsorptionsleistung und ist in der Lage, reaktive Gase wie Wasserstoff (H₂), Stickstoff (N₂), Kohlenmonoxid (CO) und Wasserdampf (H₂O) mit einer Adsorptionskapazität von bis zu 500 cm³/g einzufangen und so Ultrahochvakuumbedingungen (UHV) unter 10⁻¹⁰ mbar sicherzustellen.

Optimierte Oberfläche: Dieser Getter wurde mit einem kompakten zylindrischen Design entwickelt und maximiert das Verhältnis von Oberfläche{0}} zu -Volumen, wodurch die Chemisorptions- und Diffusionseffizienz für eine hervorragende Entfernung von Gasverunreinigungen in Vakuumsystemen verbessert wird.

Thermische Stabilität: Der Titan-Getter hält Betriebstemperaturen von 650 bis 760 Grad stand und behält seine strukturelle Integrität und Adsorptionsleistung bei, was ihn ideal für die Hochtemperatur-Vakuumwärmebehandlung und die Halbleiterfertigung macht.

 

 

Nicht-verdampfbare Eigenschaften: Im Gegensatz zu herkömmlichen Gettern verdunstet diese auf Titan- basierende Lösung nicht, was eine langfristige-Stabilität gewährleistet und das Kontaminationsrisiko in sensiblen Umgebungen wie versiegelten elektronischen Geräten und Teilchenbeschleunigern verringert.

Regenerative Fähigkeit: Der auf Nachhaltigkeit ausgelegte Getter kann durch kontrollierte Ausheizprozesse regeneriert werden, was eine wiederholte Verwendung ermöglicht und die Betriebskosten in industriellen Anwendungen senkt.

Materialreinheit: Der Getter besteht zu 99,9 % aus ultra{1}hochreinem-Titanpulver und sorgt für minimale Ausgasung und konstante Leistung, was für die Aufrechterhaltung der Vakuumintegrität in Präzisionssystemen von entscheidender Bedeutung ist.

Anwendungen

Vakuum-Wärmebehandlung: Der φ2*2mm Titan-Getter ist in Vakuumöfen für die Wärmebehandlung von Titanlegierungen unverzichtbar, da er Oxidation und Verfärbung bei Temperaturen zwischen 650 und 760 Grad verhindert und eine makellose Oberflächenqualität in Luft- und Raumfahrt- und medizinischen Komponenten gewährleistet.

Halbleiterfertigung: Dieser Getter wird in Ultrahochvakuumumgebungen (UHV) eingesetzt und hält Drücke unter 10⁻¹⁰ mbar aufrecht, was für die Waferverarbeitung, die Dünnschichtabscheidung und die Lithographie in der Halbleiterfertigung von entscheidender Bedeutung ist.

Versiegelte elektronische Geräte: Der Getter ist in Kathodenstrahlröhren (CRTs), Röntgenröhren und Vakuumunterbrecher integriert und absorbiert effektiv Restgase, wodurch die Leistung und Langlebigkeit der Geräte verbessert wird.

Teilchenbeschleuniger: In der Forschung in der Hochenergiephysik sorgt der Titan-Getter für ultra-saubere Vakuumbedingungen, minimiert Gasinterferenzen bei Teilchenstrahloperationen und erhöht die experimentelle Genauigkeit.

Optische Beschichtungen: Der Getter wird in Vakuumbeschichtungssystemen eingesetzt und entfernt Verunreinigungen während der Abscheidung von Antireflex-, Schutz- und dekorativen Beschichtungen auf Linsen, Spiegeln und Präzisionsoptiken.

Luft- und Raumfahrtkomponenten: Der Getter wird bei der Herstellung von Luft- und Raumfahrtteilen auf Titan--Basis verwendet und verhindert Verunreinigungen beim Vakuumlöten und -glühen und gewährleistet so strukturelle Integrität und Leistung.

 

Herstellung medizinischer Geräte: Der Getter ist für die Herstellung hochreiner Titanimplantate und chirurgischer Instrumente von entscheidender Bedeutung. Er beseitigt Gasverunreinigungen während Vakuumsinter- und Sterilisationsprozessen.

 

Forschung und Entwicklung: Der Getter eignet sich ideal für Vakuumsysteme im Labormaßstab und unterstützt Experimente in den Bereichen Materialwissenschaft, Oberflächenphysik und Nanotechnologie, indem er stabile, kontaminationsfreie Umgebungen aufrechterhält.

 

Energiespeichersysteme: Bei der Herstellung von Lithium-Ionen-Batterien sorgt der Getter für saubere Vakuumbedingungen während der Elektrodenherstellung und verbessert so die Effizienz und Lebensdauer der Batterie.

 

Photonik und Laser: Der Getter wird bei der Herstellung von Laserdioden und optischen Fasern verwendet und sorgt für niedrige Gaspartialdrücke, wodurch die Gerätezuverlässigkeit und die Ausgangsstabilität verbessert werden.

 

 

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