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5-Mikrometer-Edelstahl-Pulverfilterpatronen mit VCR-1/2-Zoll-Schnittstellen
Größe: φ40*196,3 mm
Filtergenauigkeit: 5 Mikrometer
Schnittstelle: VCR1/2"
Edelstahl-Pulverfilterpatronen mit VCR-1/2-Zoll-Schnittstellen sind wichtige Komponenten in der Halbleiterfertigung und wurden speziell für hochreine Gasverteilungssysteme entwickelt. Diese Filterpatronen nutzen eine fortschrittliche Metallpulver-Sintertechnologie, um eine präzise Filtration zu erreichen und effektiv Partikel mit einer Größe von bis zu 5 Mikrometern aufzufangen. Dies gewährleistet die Lieferung ultrareiner Prozessgase, die für die Aufrechterhaltung der Integrität empfindlicher Halbleiterfertigungsprozesse unerlässlich sind. Die VCR-1/2-Zoll-Schnittstelle bietet eine Auslaufsichere Metall--auf--Dichtung, die den strengen Anforderungen von Halbleiterumgebungen entspricht, in denen selbst kleinste Gasverunreinigungen zu erheblichen Defekten in mikroelektronischen Geräten führen können. Ihre robuste Konstruktion aus korrosionsbeständigem Edelstahl garantiert Langlebigkeit und langfristige Zuverlässigkeit unter extremen Bedingungen.
In Halbleiteranwendungen spielen diese Filterpatronen eine entscheidende Rolle beim Schutz nachgeschalteter Geräte wie Massendurchflussreglern und Präzisionsventilen vor Partikelverunreinigungen. Durch die nahtlose Integration in bestehende Leitungen für hochreines Gas vereinfachen sie die Installation und Wartung und minimieren gleichzeitig die Ausfallzeit des Systems. Die Kombination aus hoher Filtrationseffizienz, außergewöhnlicher chemischer Beständigkeit und zuverlässiger Abdichtung macht sie unverzichtbar für die Gewährleistung einer gleichbleibenden Gasreinheit und Betriebseffizienz in modernen Halbleiterproduktionsanlagen.
Produktspezifikationen

Material: 316L-Pulver
Größe: φ40*196,3 mm
Filtergenauigkeit: 5 Mikrometer
Schnittstelle: VCR1/2"
Technisch: Sintern
Produktmerkmale

1. Ultrahohe Reinheit und Partikelretention
- Die gesinterte Edelstahlstruktur (normalerweise 316L) bietet ein sauberes Ganzmetall-Filtrationsmedium ohne Bindemittel, Klebstoffe oder organische Rückstände.
- Kann Partikel im Submikrometerbereich bis zu einer Größe von 0,5 μm zurückhalten und verhindert so, dass Mikrokontaminationen Prozesskammern oder Wafer erreichen.
- Keine Partikelabgabe, wodurch eine stabile Partikelzahl über einen längeren Zeitraum gewährleistet wird.
2. Robuste mechanische und thermische Stabilität
- Das Vollmetalldesign hält hohem Druck, hoher Temperatur und häufigen Wärmezyklen stand.
- Bewahrt die mechanische Integrität unter den in Gasverteilungssystemen üblichen Vibrations-, Rückströmungs- oder Druckimpulsbedingungen-.
- Kompatibel mit der Begleitheizung für Hochtemperatur-Gasleitungen.

3. Wiederreinigbar und regenerierbar
- Filterelemente können rückgespült, mit Ultraschall gereinigt oder im Vakuum gebacken werden, was im Vergleich zu Polymer- oder Keramikfiltern eine längere Lebensdauer ermöglicht.
- Der typische Lebenszyklus verlängert sich um das Fünf- bis Zehnfache des von Einweg-PTFE- oder PVDF-Filtern, wodurch Ausfallzeiten und Gesamtbetriebskosten minimiert werden.
4. Chemische Kompatibilität und Korrosionsbeständigkeit
- 316L-Edelstahl behält einen passiven Oxidfilm in Chlorid-, Fluor-, Ammoniak- und sauren Gasumgebungen bei.
- Die nicht reaktive Oberfläche verhindert die Extraktion von Metallionen oder Änderungen der Gaszusammensetzung.
Anwendungen
1. UHP-Gasverteilungsleitungen
- Installiert in Großgaslieferanlagen, Gasschränken und VMB/VMP-Panels, filtert Partikel heraus, bevor Gas in MFCs oder Prozesswerkzeuge gelangt.
- Wird in N₂, Ar, H₂, He, O₂, NH₃, CF₄ und anderen hochreinen Gasleitungen zur Versorgung kritischer Prozesse verwendet.
2. Einlassschutz des Massendurchflussreglers (MFC).
- Verhindert Partikelverschmutzung und Ventilverschleiß in Präzisions-Massendurchflussreglern.
- Verbessert die langfristige Flussstabilität und Kalibrierungskonsistenz von MFCs.
3. Prozesskammer- und Werkzeuggaseinlässe
- Gewährleistet eine partikel- und feuchtigkeitsfreie Lieferung in CVD-, ALD-, Ätz- und Diffusionsöfen.
- Wird in SiH₄-, WF₆-, BCl₃-, PH₃- und TEOS-Linien verwendet, bei denen die Reinheit für die Filmqualität und -ausbeute entscheidend ist.
4. Spezialgas- und Vorläufersysteme
- Für metallorganische oder halogenbasierte Gase, bei denen chemische Inertheit und Temperaturstabilität entscheidend sind.
- Wird oft nach Verdampfern oder Bubblern platziert, um kondensierte Partikel oder Tröpfchen aufzufangen.
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