1 µm poröse Titanfilterpatrone für die Halbleiter-Nassverarbeitung

Die poröse 1-um-Titanfilterkartusche für die Halbleiter-Nassverarbeitung bietet absolute -bewertete Partikelrückhaltung in aggressiven chemischen Umgebungen, in denen Polymermembranen anschwellen oder sich zersetzen. Hergestellt aus mindestens 99,4 % industriellem hoch{4}}reinem Titanpulver durch isostatisches Kaltpressen und Hochtemperatur-Vakuumsintern erzielt dieser gesinterte Metallpulverfilter eine gleichmäßige mikroporöse Struktur mit einer Porosität von 30 {9}}40 % und einer engen Porengrößenverteilung. Bei der Dekarbonisierungsfiltration in der API-Pharmaproduktion fängt der 1 μm gesinterte Titanstabfilter feine Aktivkohlerückstände und Katalysatorfeinstoffe aus hochviskosen Mutterlaugen auf, wobei die wiederverwendbare Rückspülfunktion die Lebensdauer im Vergleich zu Membranalternativen um ein Vielfaches verlängert. Bei der Nass-Prozess-Halbleiterfertigung werden 1-um-Titanpulver-Sinterfilter in chemische Lieferleitungen für SC-1-, SC-2-, 49 % HF- und HNO₃-Ströme integriert, wobei das Titansubstrat Lochfraß durch chloridreiche Umgebungen widersteht, die Edelstahlsorten korrodieren. Die Präzisionsbewertung von 1 µm entfernt siliziumhaltige Partikel und metallische Verunreinigungen im Submikronbereich, ohne Partikel abzuwerfen, und sorgt so für die Aufrechterhaltung der Filtratreinheit, die für die Waferverarbeitung im Nanometerbereich erforderlich ist.

Hochreine Wasseraufbereitungsschleifenanwendungen nutzen poröse 1-µm-Titanfilterpatronen für die Nassverarbeitung von Halbleitern als abschließende Sicherheitsfiltration vor Ultrafiltrations- und EDI-Systemen, bei denen das gesinterte Element aus Titanpulver regelmäßiger Ozonsterilisation und Dampfzyklen von bis zu 280 Grad unter nassen Bedingungen standhält. Im Gegensatz zu Polypropylen-Tiefenfiltern oder PTFE-Membrankartuschen, die unter Temperaturwechsel erweichen oder delaminieren, behält die vakuumgesinterte Titanmatrix ihre Dimensionsintegrität über den gesamten pH-Bereich von 1 bis 14 bei und hält Differenzdrücken von bis zu 5,0 bar stand, ohne dass die Porenstruktur zusammenbricht. CMP-Schlammpolierschleifen in modernen Fabriken verwenden 1-μm-Titanfilterpatronen nach -Harzadsorptionsstufen, um agglomerierte, übergroße Schleifpartikel einzufangen und gleichzeitig die gezielte Partikelgrößenverteilung von kolloidalen Siliciumdioxid- oder Ceroxidschlämmen zu bewahren. Die Eigenschaft, keine Partikel abzuwerfen, und die Online-Regenerierbarkeit durch Rückspülung oder Ultraschallreinigung ermöglichen eine wiederholte Wiederverwendung, wodurch die Häufigkeit des Filterwechsels und die Betriebskosten im kontinuierlichen Halbleiter-Nassbankbetrieb reduziert werden.

Präzisionsfiltrationsleistung – Die poröse 1-µm-Titanfilterkartusche bietet eine absolute Partikelrückhaltung in Halbleiter-Nassverarbeitungslinien und entfernt Submikron-Siliziumrückstände, metallische Verunreinigungen und gelartige Partikel aus aggressiven Chemikalien wie HF, HNO₃, SC-1 und SC-2 ohne Mediendurchbruch.

Korrosionsbeständigkeit in extremen pH-Bereichen – Hergestellt aus mindestens 99,4 % hochreinem Titanpulver durch Vakuumsintern. Diese Filterpatrone aus gesintertem Titan hält Umgebungen mit einem pH-Wert von 1–14 stand und widersteht Lochfraß und Chloridangriffen, die Edelstahl- oder Hastelloy-Filter in Nassbank-Chemikalienverteilungssystemen schnell abbauen.

Hohe thermische Stabilität für heiße DIW- und SIP-Zyklen – Der Titanpulver-Sinterfilter hält einem Dauerbetrieb bei 280 Grad unter nassen Bedingungen stand und unterstützt die Dampf--in--Sterilisation (SIP) und Spülungen mit heißem entionisiertem Wasser, ohne dass extrahierbare Stoffe, die bei Polypropylen- oder PTFE-Membrankartuschen üblich sind, erweicht, delaminiert oder ausgelaugt werden.

No particle shedding – Unlike depth filters or wound cartridges, the rigid sintered metal structure eliminates fiber release or media migration, maintaining ultrapure filtrate essential for nanometer-scale wafer fabrication where any foreign particle >0,5 μm führen zu schwerwiegenden Gerätedefekten.

Hervorragende Regenerierbarkeit bei der Rückspülung – Die poröse 1-µm-Titanfilterkartusche unterstützt Online-Rückspülung, Ultraschallreinigung und Säureregeneration, entfernt eingefangene Feststoffe und stellt die anfänglichen Durchflussraten über Dutzende Wiederverwendungszyklen wieder her, wodurch die Häufigkeit des Kartuschenwechsels und die Betriebskosten in Fabriken mit hohem Volumen erheblich reduziert werden.

Hohe Differenzdrucktoleranz – Die vakuumgesinterte Titanmatrix behält die Integrität der Porenstruktur bei Differenzdrücken von bis zu 5,0 bar bei und übertrifft Membranfilter, die bei Stoßströmen oder Verstopfungsereignissen in Halbleiter-Nassverarbeitungsgeräten kollabieren oder reißen.

Hochreine chemische Verteilungsleitungen in Waferfabriken – installiert in Point-of--Filtergehäusen (POU) für 49 % HF-, HNO₃, NH₄OH, H₂SO₄ und HCl-Ströme, entfernt die 1-µm-Filterpatrone aus gesintertem Titan Submikron-Metallpartikel und Siliziumstaub vor Nassbänken und Einzel--Wafer-Prozessoren.

Umwälzkreisläufe für ozonisiertes entionisiertes Wasser (DIO₃) – werden als Sicherheitsfiltration in Post-CMP-Reinigungs- und Fotolack-Entfernungswerkzeugen eingesetzt. Die poröse 1-um-Titankartusche widersteht Ozonkonzentrationen von bis zu 20 ppm und kontinuierlicher UV-Belastung, bei der Polypropylenfilter spröde werden und PTFE-Membranen ihre mechanische Integrität verlieren.

CMP slurry polishing loops – final polish and bulk removal – Positioned after slurry blending tanks and before dispense arms for colloidal silica, ceria, or alumina slurries. The sintered titanium filter traps over-sized agglomerates (>1 µm) unter Beibehaltung der nativen Partikelgrößenverteilung und des Zeta-Potenzials, einer konsistenten Abtragsrate und einer Wafer-Ungleichmäßigkeit (WIWNU).

Post-Wasserfiltration im Bürstenkastenwäscher des CMP – installiert in Leitungen für entionisiertes Wasser, die PVA-Bürsten speisen, um nach dem Waferpolieren verbleibende Schleifpartikel und Kupferionen wieder aufzufangen. Die absolute Nennleistung von 1 µm verhindert Mikrokratzer auf Kupfer und dielektrischen Oberflächen mit niedrigem -k-Wert während des Bürstenkontakts.

Endgültiger Sicherheitsfilter für den Polierkreislauf für hochreines Wasser (UPW) – vor den Point-of-Ventilen (POU) in Nassätz- und Spülstationen positioniert. Die Filterpatrone aus Titanpulver funktioniert in heißen UPW (80 Grad) und periodischen Dampfsterilisationszyklen, ohne Partikel abzuwerfen, wodurch die Bakterienkontrolle und die Partikelanzahl unter den Anforderungen der Klasse 1 gehalten werden.

Chemische Nickel- und Kobalt-Beschichtungsbäder für Barriere-/Keimschichten – Integriert in die Reinigungsschlitten für Beschichtungsbäder, um Partikelverunreinigungen von Stabilisatoren und Komplexbildnern zu entfernen. Die korrosionsbeständige Titanmatrix funktioniert bei erhöhten Temperaturen (70–90 Grad) und alkalischem pH-Wert ohne Wasserstoffversprödung oder Badverunreinigung.

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